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人工智能
2024/12/10 10:38

英偉達展望未來AI加速器:集成硅光子I/O,3D垂直堆疊DRAM內(nèi)存

IT之家  溯波(實習)

2024 IEEE IEDM 國際電子設備會議目前正在美國加州舊金山舉行。據(jù)分析師 Ian Cutress 的 X 平臺動態(tài),英偉達在本次學術會議上分享了有關未來 AI 加速器的構想。

英偉達認為未來整個 AI 加速器復合體將位于大面積先進封裝基板之上,采用垂直供電,集成硅光子 I/O 器件,GPU 采用多模塊設計,3D 垂直堆疊 DRAM 內(nèi)存,并在模塊內(nèi)直接整合冷板。

注:Ian Cutress 還提到了硅光子中介層,但相關內(nèi)容不在其分享的圖片中。

在英偉達給出的模型中,每個 AI 加速器復合體包含 4 個 GPU 模塊,每個 GPU 模塊與 6 個小型 DRAM 內(nèi)存模塊垂直連接并與 3 組硅光子 I/O 器件配對。

硅光子 I/O 可實現(xiàn)超越現(xiàn)有電氣 I/O 的帶寬與能效表現(xiàn),是目前先進工藝的重要發(fā)展方向;3D 垂直堆疊的 DRAM 內(nèi)存較目前的 2.5D HBM 方案擁有更低信號傳輸距離,有益于 I/O 引腳的增加和每引腳速率的提升;垂直集成更多器件導致發(fā)熱提升,模塊整合冷板可提升解熱能力。

Ian Cutress 認為這一設想中的 AI 加速器復合體要等到 2028~2030 年乃至更晚才會成為現(xiàn)實

一方面,由于英偉達 AI GPU 訂單龐大,對硅光子器件產(chǎn)能的需求也會很高,只有當英偉達能保障每月 100 萬以上硅光子連接時才會轉(zhuǎn)向光學 I/O;

另一方面,垂直芯片堆疊所帶來的熱效應需要以更先進的材料來解決,屆時可能會出現(xiàn)芯片內(nèi)冷卻方案。

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